钛靶材，钛元素符号 Ti ，原子序数 22 ，密度 4.454g/Cm3 ，物理性质：熔点 1668℃，沸点 3262℃，比热容 0.52（J /(Kg·K) ，蒸发热 421（KJ/Mol），熔化热 15.45（KJ/Mol），导电率 0.0234（106/Cm） 。由于高纯钛的成本相当昂贵，应用领域极其有限，主要用作半导体材料和超高真空装置中的吸气材料。高纯钛具有吸气性，特别是吸氢、CH4、Co2气体，因此它能在高真空和超高真空系统中获得广泛应用。用高纯钛溅射制作LSI、VLSI、ULSI的线路网时，可使这些集成件变得格外轻、薄、尺寸小而且线路密集。高纯钛靶材也可以用作阻挡层金属材料。下图是钛溅射靶材的两种典型的显微金相检测图片，平均粒径<50um。